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标准国际标准半导体SEMI发布半导体制造5项新标准

SEMI日前发布五项新的半导体制造技术标准。这些标准由来自设备与材料供应商、器件制造商以及其他参与SEMI国际标准项目厂商的技术专家们开发制定,可通过购买CD-ROM或在SEMI网站上下载获得。

SEMI标准每三年发布一次。这些新的专利作为2008年11月版的一部分,加入到过去35年中SEMI已发布的775个标准中。

“这些新的SEMI标准是基于产业专家们的合作与共识而制订的。”SEMI国际标准主管JamesAmano说道,“这些标准的执行将帮助厂商应对日益增加的制造挑战,改善收益率,并实现设备工艺的全球化兼容。”

五项标准分别是:

SEMIE139.3

XML/SOAPBindingforRecipeParameterManagement

(配方和参数管理的XML/SOAP结合)

SEMIG87

SpecificationforPlasticTapeFramefor300mmWafer

(300mm晶圆塑料带框规格)

SEMIM73

TestMethodsforExtractingRelevantCharacteristicsfromMeasuredWaferEdgeProfiles

(由标准晶圆边缘提取相关特征的测试方法)

SEMIM74

Specificationfor450mmDiameterMechanicalHlingPolishedWafers

(450mm抛光晶圆机械搬运规格)

SEMIT20

SystemArchitectureforPreventing/DetectingSemiconductorCounterfeitProducts

(半导体仿冒品防止/探测系统架构)

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